等離子清洗器產(chǎn)品及廠家

CPC-E等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-08-25
CPC-Eplus等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-08-25
等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-08-25
CPC-F等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-08-25
CPC-FM等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-08-25
CPC-FMplus等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaner）也叫等離子清潔機、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術，它利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2025-08-25
CPC-10等離子清洗機
等離子清洗能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-08-25
CPC-10M等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-08-25
CPC-G等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
更新時間:2025-08-25
CPCP3粉體等離子清洗機
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時間:2025-08-25
手套箱專用等離子清洗機
vgb系列手套箱專用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結(jié)構及合理的結(jié)構設計更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-08-25
中試生產(chǎn)型等離子清洗機
cpc系列等離子清洗機是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復性、一致性好。
更新時間:2025-08-25
透射電鏡樣品桿清洗機
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-08-25
掃描電鏡等離子清洗機
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會附著于樣品桿表面，會導致電鏡抽真空時間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時間:2025-08-25
等離子清洗機 2.6L 小型 高性價比 德國原裝進口 DIENER ZEPTO
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-08-25
等離子清洗機 10.5L 小型 高性價比 德國原裝進口 DIENER ATTO
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-08-25
精密型等離子清洗機 小型 臺式 研發(fā)專用 FEMTO 德國原裝進口 DIENER 2.2L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-08-25
精密型等離子清洗機 研發(fā)專用 PICO 德國原裝進口 DIENER 5L-8L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-08-25
精密型等離子清洗機 小型生產(chǎn) NANO 德國原裝進口 DIENER 18L-24L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-08-25
德國原裝進口 等離子清洗機 DIENER TETRA30 30-50L 清洗/活化/蝕刻/涂層
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-08-25
常壓等離子清洗機 德國原裝進口 DIENER plasmabeam 大氣等離子清洗機
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-08-25
常壓等離子清洗機 德國原裝進口 DIENER plasmabeam DUO 大氣等離子清洗機
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-08-25
全自動在線式大氣等離子清洗機
cap-auto系列全自動在線式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調(diào)，運動軌跡可根據(jù)要求設定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動連接前后工序，實現(xiàn)對產(chǎn)線產(chǎn)品的等離子清洗處理。
更新時間:2025-08-25
CPC-Auto在線片式真空等離子清洗機
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養(yǎng)費用低，環(huán)保等優(yōu)點。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點，適用于大規(guī)模全自動化生產(chǎn)。
更新時間:2025-08-25
等離子去膠機
等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。
更新時間:2025-08-25
德國 PVA TePla等離子清洗系統(tǒng)
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位，實現(xiàn)清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋，并且不會改變表面的粗糙度。
更新時間:2025-08-25
等離子清洗機
等離子清洗機kt-s2dqx,用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150w 13.56mhz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、pcb制程、pcb制程、元器件封裝、cog、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
更新時間:2025-08-22
等離子去膠機
等離子去膠機kt-s2dqx能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。本產(chǎn)品配備觸摸屏控制，操作更便捷，更智能。
更新時間:2025-08-22
旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機
旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用“達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
更新時間:2025-08-22
滾筒等離子清洗機
滾筒等離子清洗機kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備，通過旋轉(zhuǎn)機構帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。
更新時間:2025-08-22
等離子清洗機刻蝕機
等離子清洗機刻蝕機kt-s2dqx利用等離子清洗機對包裝盒子或玻璃瓶體進行預處理，在包裝或瓶體貼標簽過程中，經(jīng)過預處理后，可采用價格低廉、無環(huán)境污染的水膠。 kt-s2dqx配備了觸摸屏，產(chǎn)品多功能，智能，簡單。
更新時間:2025-08-22
等離子清洗機去膠機器
等離子清洗機去膠機器kt-s2dqx在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達到清洗目的．
更新時間:2025-08-22
德國Elma E系列實驗室清洗儀器
高效能的37 khz換能器，有效傳導能量并且耐用? weeep專利技術清洗功能，調(diào)頻優(yōu)化聲場均勻分布? pulse脈沖功能，增加超聲波峰值功率，提升超聲功率20%? 定時：1~30min或連續(xù)操作模式，控溫：30℃~80℃，以5°c為刻度? 自動開啟功能：溫度達到設定值，超聲清洗自動開始? 帶有溫度閾值報警功能
更新時間:2025-08-22
測試真空泵
hty-30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設備使
更新時間:2025-08-21
輝光放電儀QuickGlow
quickglow是經(jīng)濟實惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國產(chǎn)輝光放電儀，其常見的應用之一是用于tem載網(wǎng)表面的親水化處理
更新時間:2025-08-21
Plasma Etch PE-25等離子清洗器
pe系列優(yōu)勢如下：1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個等離子體以保證整個處理過程的最佳均勻性。性能遠優(yōu)于傳統(tǒng)石英，玻璃或不銹鋼腔室2. 腔體一體成型，無焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。3. 電容平行板設計, 最高效最均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規(guī)則實驗樣品放入腔體內(nèi)處理。4. 操作簡便, 面板的操作部分，非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設計使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時間內(nèi)就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。5. 安全保障：在小型設備中，唯一引入一鍵急停保護按鈕，當參數(shù)設置有誤而設備已經(jīng)啟動的時候，可以快速終止實驗，以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。6. 獨創(chuàng)的粉體收集裝置，可以處理500~1000ml粉體
更新時間:2025-08-21
Plasma Etch PE-50等離子清洗器
1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個等離子體以保證整個處理過程的最佳均勻性。性能遠優(yōu)于傳統(tǒng)石英，玻璃或不銹鋼腔室2. 腔體一體成型，無焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。3. 電容平行板設計, 最高效最均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規(guī)則實驗樣品放入腔體內(nèi)處理。4. 操作簡便, 面板的操作部分，非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設計使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時間內(nèi)就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。5. 安全保障：在小型設備中，唯一引入一鍵急停保護按鈕，當參數(shù)設置有誤而設備已經(jīng)啟動的時候，可以快速終止實驗，以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。6. 獨創(chuàng)的粉體收集裝置，可以處理500~1000ml粉體
更新時間:2025-08-21
SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-3000 (M) 兆聲掩模板清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
LSC-4000 (C) 兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
NPC-3500 (M) 等離子清洗機
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-08-21
NPE-4000 (A) 全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-08-21
LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
NPC-4000 (M) 等離子清洗機
npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-08-21
NPC-3500 (A) 全自動等離子清洗機去膠機
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-08-21
SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
NPC-4000 (A) 全自動等離子清洗機去膠機
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-08-21

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