等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)

PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco獨(dú)特的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)TEOS源，以低應(yīng)力沉積SiO2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達(dá)100 µm）。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø300毫米晶圓的優(yōu)良工藝均勻性，實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。

1. 產(chǎn)品概述

PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco獨(dú)特的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)TEOS源，以低應(yīng)力沉積SiO2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達(dá)100 µm）。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø300毫米晶圓的優(yōu)良工藝均勻性，實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。

2. 設(shè)備用途/原理

塑料材料上保護(hù)膜的沉積在3D LSI的通孔側(cè)壁上沉積絕緣膜。光波導(dǎo)的制造（光纖芯/包層）。制造用于微型機(jī)械生產(chǎn)的面罩。覆蓋高縱橫比結(jié)構(gòu)，如MEMS器件。TCSAW器件的溫度補(bǔ)償膜和鈍化膜。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

沉積范圍達(dá)ø300 mm（12"）。陰耦合自偏析沉積技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)低應(yīng)力薄膜的高速（>300 nm/min）沉積。通過低溫沉積，可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結(jié)構(gòu)的優(yōu)秀階梯覆蓋率。使用鍺、磷、硼液源控制折射率。優(yōu)異的工藝均勻性和可重復(fù)性。                                                                                                  

關(guān)鍵詞：等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)  PD-330STC  SAMCO  

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