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等離子刻蝕系統(tǒng)RIE

企業(yè)檔案

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

4 營業(yè)執(zhí)照已上傳

企業(yè)類型:經(jīng)銷商

公司地址:廣東深圳市

主營產(chǎn)品:冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā),熱蒸發(fā),脈沖激光沉積,化學(xué)氣相沉積

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產(chǎn)品簡介

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。具有出色的工藝可重復(fù)性和等離子蝕刻工藝靈活性,這得益于真空負(fù)載鎖定和由計算機(jī)控制的等離子體蝕刻工藝條件。靈活性、模塊化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的設(shè)計特點(diǎn)?梢匝b載直徑達(dá) 200 mm 的樣品和載體。該系統(tǒng)可以配置為穿墻操作或具有多種選項的小占地

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡介

1. 產(chǎn)品概述:

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。具有出色的工藝可重復(fù)性和等離子蝕刻工藝靈活性,這得益于真空負(fù)載鎖定和由計算機(jī)控制的等離子體蝕刻工藝條件。靈活性、模塊化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的設(shè)計特點(diǎn)?梢匝b載直徑達(dá) 200 mm 的樣品和載體。該系統(tǒng)可以配置為穿墻操作或具有多種選項的小占地面積。

2. 主要功能與優(yōu)勢:

流程靈活性

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)有助于大量基于氯和氟的等離子體蝕刻工藝。

占地面積小,模塊化程度高

該系統(tǒng)可以配置為單個反應(yīng)器,也可以配置為具有盒到盒裝載的集群工具。單反應(yīng)器的配置是在系統(tǒng)上方有一個負(fù)載鎖,以小化占地面積,或者有一個負(fù)載鎖,用于穿墻安裝。

3. SENTECH控制軟件

SENTECH 等離子蝕刻工具包括用戶友好的強(qiáng)大軟件,帶有 GUI、參數(shù)窗口、配方編輯器、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。具有出色的工藝可重復(fù)性和等離子蝕刻工藝靈活性,這得益于真空負(fù)載鎖定和由計算機(jī)控制的等離子體蝕刻工藝條件。靈活性、模塊化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的設(shè)計特點(diǎn)?梢匝b載直徑達(dá) 200 mm 的樣品和載體。該系統(tǒng)可以配置為穿墻操作或具有多種選項的小占地面積。

 


關(guān)鍵詞:刻蝕  SENTECH  

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