官方微信

官方微信 公眾號(hào) ayiwangapp17

掃一掃,獲得最新商機(jī)

手機(jī)版

手機(jī)版 阿儀網(wǎng)移動(dòng)端

手機(jī)訪問更快捷

頻道

您的位置: 阿儀網(wǎng) > 產(chǎn)品展廳 >  行業(yè)儀器 >  其他 >  其它 >  IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱

產(chǎn)品屬性本產(chǎn)品采購屬于商業(yè)貿(mào)易行為

IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱

企業(yè)檔案

上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司

12 營業(yè)執(zhí)照已上傳

企業(yè)類型:生產(chǎn)商

公司地址:上海奉賢臨海工業(yè)區(qū)818號(hào)

主營產(chǎn)品:HMDS預(yù)處理系統(tǒng),智能HMDS烘箱,無氧化烘箱,真空無氧烤箱,氮?dú)夂嫦,潔凈烤箱,無氧烤箱,無塵無氧固化烤箱,高精度加熱臺(tái),精密恒溫?zé)岚,烤膠臺(tái),LED烤箱,PI/CPI/BCB/PBO/LCP固化烤箱,氮?dú)夤,半?dǎo)體工藝設(shè)備。黑蒜加工設(shè)備,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,超低溫試驗(yàn)箱,超低溫沖擊試驗(yàn)箱,-150度高低溫試驗(yàn)箱,恒溫恒濕試驗(yàn)箱,真空烘箱,熱風(fēng)真空烤箱,環(huán)境檢測(cè)儀器,實(shí)驗(yàn)室研究儀器,橡塑檢測(cè)儀器,電纜檢測(cè)儀器設(shè)備等。

展開更多

產(chǎn)品簡介

IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱箱主要用于:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、IC、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡介

 IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱簡介:

   IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱箱主要用于:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、IC、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

IC氮?dú)饪鞠洌饪涕g用烤箱技術(shù)參數(shù):

內(nèi)桶:采用SUS304#鏡面不銹鋼板,經(jīng)堿性蘇打水清潔,避免烘烤時(shí)產(chǎn)生灰塵;
中桶:采用SUS304#鏡面不銹鋼板,經(jīng)堿性蘇打水清潔,全氬弧焊焊接密封,避免烘烤時(shí)自身污染;
外部材料:采用SUS304拉絲不銹鋼板制造;
保溫材料:采用國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)超細(xì)玻璃棉,100K級(jí)高密度高保溫材料制造,六面保溫;
潔凈度:100級(jí)、10級(jí)、1000級(jí)

氮?dú)膺M(jìn)氣口:加裝流量計(jì)控制進(jìn)氣量,入氣口:6mm;
排氣口:自動(dòng)啟動(dòng)風(fēng)門,達(dá)到強(qiáng)烈循環(huán)效果而降溫的目的

電源:AC220V/380V 50Hz 
溫度均勻度:≤±2.0℃;

溫度范圍:RT+20~300℃,
氧含量:≤500ppm;

內(nèi)尺寸:W710mm ×D 610mm ×H 560mm(可做上下兩箱);

傳感器:采用日制進(jìn)口感溫芯片,不銹鋼外套,輸出被控制元件:SSR固態(tài)繼電器輸出;
溫度控制器:采用多段溫度控制器,數(shù)字設(shè)定,LED顯示,PID自動(dòng)演算,SSR固態(tài)繼電器輸出;
溫度控制器顯示精度: 0.1;
IC氮?dú)饪鞠洌饪涕g用烤箱保護(hù)裝置:

超溫防止警報(bào)裝置;
電熱、馬達(dá)過電流保護(hù);
控制回路短路及過載保護(hù);
漏電斷路器;
逆向防止器;
機(jī)臺(tái)異常風(fēng)鳴器;

采用電磁門鎖,附斷電防開門裝置;
三色指示燈:黃色待機(jī),綠色運(yùn)轉(zhuǎn),紅色超溫指示;
配合烘烤流程,控制氮?dú)饧翱諝庵畣㈤],避免氮?dú)饫速M(fèi);


關(guān)鍵詞:光刻間用烤箱  

公司同類產(chǎn)品

  • 智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)@2023已更新報(bào)價(jià)推薦

    智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)@2023已更新報(bào)價(jià)推薦
    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成 更多詳細(xì)

  • 等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀

    等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀
    等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì),它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用,引起分子結(jié)構(gòu)改變, 更多詳細(xì)

  • JS-HMDS專用烘箱,HMDS真空烤箱

    JS-HMDS專用烘箱,HMDS真空烤箱
    JS-HMDS專用烘箱,HMDS真空烤箱有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工 更多詳細(xì)

  • RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)

    RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)
    RTP系列快速合金設(shè)備具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。 更多詳細(xì)

相關(guān)標(biāo)簽
您最近閱讀過的產(chǎn)品

在線咨詢

免責(zé)聲明:以上所展示的[IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱]由會(huì)員[上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司]自行提供,[IC氮?dú)饪鞠,光刻間用烤箱]內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員[上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司]負(fù)責(zé)。[阿儀網(wǎng)]對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任

友情提醒:為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn),建議您在購買相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)以及產(chǎn)品質(zhì)量!

返回頂部
進(jìn)入展臺(tái)
在線詢價(jià)