手術(shù)剪產(chǎn)品及廠家
技術(shù)合作中國科學(xué)電工研究所，廣東工業(yè)大學(xué)，哈爾濱工業(yè)大學(xué)實(shí)用新型專利：電解質(zhì)等離子體拋光電源系統(tǒng)（專利號(hào)：zl 2016 2 0387346.6）
更新時(shí)間:2025-08-20
環(huán)保-低成本電解質(zhì)等離子拋光的原理是在低濃度的鹽溶液中形成氣膜放電，以實(shí)現(xiàn)對金屬工件表面的拋光。主要技術(shù)優(yōu)勢：低濃度的鹽溶液替代傳統(tǒng)強(qiáng)酸強(qiáng)堿；無粉塵污染，絕對環(huán)保；無死角拋光；已實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；拋光精度一致性優(yōu)良；拋光效率高，可節(jié)省50%-70%加工成本。
更新時(shí)間:2025-08-20
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