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化學機械拋光機（CMP）產(chǎn)品及廠家

P-2金相試樣拋光機

拋光是制備金相試樣過程中的一道主要工序，本拋光機可使您的工件獲得光亮如鏡的表面。本機轉動平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高。適用于工廠、科研單位的金相試驗室。

更新時間:2025-08-22

該公司產(chǎn)品分類：浙江捷宸儀器設備有限公司

P-1金相試樣拋光機

更新時間:2025-08-22

該公司產(chǎn)品分類：浙江捷宸儀器設備有限公司

IRG-2-S赫爾納供應德國Baublies滾光工具

德國baublies滾光工具irg-2-sirg-2-s產(chǎn)品詳解技術參數(shù)加工直徑：?16.9 mm（支持定制）滾光深度：99 mm適配機床：cnc車床/加工中心工作壓力：50-150 n表面粗糙度改善率：≥60％工作原理通過硬質合金滾珠的徑向壓力，在工件內(nèi)孔表面形成塑性變形層，實現(xiàn)表面粗糙度優(yōu)化與殘余應力改善，提升零部件疲勞壽命。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：赫爾納貿(mào)易（大連）有限公司

TDP-1200/1200A雙面拋光機

雙面拋光機分為雙面機械拋光和雙面化學拋光兩種，分別代表雙面拋光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面拋光，操作簡單，搭配不同的夾具，拋光墊，拋光液可以實現(xiàn)不同材料，不同尺寸，不同厚度的晶片拋光。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

TPC-2110全自動CMP拋光機

全自動cmp拋光機是一款針對薄膜（介質層）的全自動拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同時搭配雙面pva滾刷進行在線刷洗功能，實現(xiàn)干進干出，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產(chǎn)品的平坦化拋光，應用廣泛。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

TMP-150A/200ACMP拋光機

cmp拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng)，氣囊薄膜柔性加壓，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產(chǎn)品的平坦化拋光，應用廣泛。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

TMP-200S/300S半自動CMP拋光機

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

POLI-400Lcmp拋光機

poli-400lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產(chǎn)品的平坦化拋光，應用廣泛。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

POLI-500CMP拋光機

poli-500是小型8英寸cmp機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產(chǎn)品的平坦化拋光，應用廣泛。如有需要半導體設備和進口半導體設備的朋友歡迎電話咨詢我們！

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

POLI-762CMP拋光機

poli-762是小型12英寸cmp機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產(chǎn)品的平坦化拋光，應用廣泛。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP GPC-300A全自動CMP晶圓清洗一體機

韓國g&p的全自動cmp晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP POLI系列CMP

gnp poli-762是高通用性12英寸(300mm) cmp工藝而開發(fā)，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。gnp poli-500廣泛用于耗材供應商，襯底制造商和芯片開發(fā)商的8“(200mm)高研發(fā)評估。gnp poli-400l是為先進的化學機械拋光工藝開發(fā)應用，如mems, as以及化學機械拋光特性研究。該系統(tǒng)擁有成本低，占地面積小。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP CLEANER-812LCMP后清洗機

gnp cleaner-812l型cmp后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP CLEANER-428LCMP后清洗機

gnp cleaner-428l型cmp后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP POLI-610CMP

gnp poli-610為藍寶石等復合晶圓的cmp工藝開發(fā)而設計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)運行。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

GNP POLI-PCB系列CMP

g&p旗下的gnp poli-pcb系列cmp主要運用于研發(fā)，操作簡單，成本低。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

PT8420-0050-311-1610上海祥樹供應CELESCO備件歐洲進口

上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。

更新時間:2025-08-13

該公司產(chǎn)品分類：上海祥樹歐茂機電設備有限公司