掃描電子顯微鏡（SEM）產品及廠家

日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-01-08
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時間:2025-01-08
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統 jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
更新時間:2025-01-08
日本JEOL 雙束加工觀察系統
日本jeol 雙束加工觀察系統 jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統，在1kv低加速電壓下,實現了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-01-08
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2025-01-08
德Neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優(yōu)勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現真空環(huán)境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2025-01-08
太赫茲近場光學顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場光學顯微鏡 -30nm光學信號空間分辨率
更新時間:2025-01-08
日本電子JEOL場發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時間:2025-01-08
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時間:2025-01-08
SEM掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時間:2025-01-08
SEM掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡#2023已更新
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時間:2025-01-08

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